印制电路板（PCB）废水处理方法

1.脱模显影废液。脱模显影废液主要为显影、湿膜显影工序产生的含油大量油墨的高浓度COD废水。有两种处理方法：一种为酸析法，利用分流出来的废酸液掺混进行搅拌，在酸性条件下（pH2.5~3.0），大多有机污染物可以析出：另一种催化法，将反应池中的废水pH值调至2.5，向池中分别投加FeSO4催化剂、H2O2强氧化剂，反应一定时间后，消化分解废液中的有机物，清液自动流入有机废水调节池进行后续处理。

2.含氰废水。此类废水主要来自沉金工序的清洗过程。废水主要含有COD及重金属与氰形成的络合物（Cu2+、Au2+、CN-）等污染物。此类废水必须进行破氰处理，可采用碱性氯化法，在碱性条件下，分批投入NaClO氧化剂，使络合物中的氰离子释放出来，经过两级反应，使CN-离子生成稳定无毒的CO2和N2，从而达到去除CN-的目的。主要反应式如下：

CN^-+ClO^-+H₂O=CNCl↑+2OH^-

CNCl+2OH^-=CNO^-+Cl^-+H₂O

2CNO^-+3ClO^-+H₂O=2CO₂↑+N₂↑+3Cl^-+2OH^-

式①②为一级氧化反应，式③为二级氧化反应。式①产物氯化氢CNCl为易挥发的有毒物质，且在酸性条件下不稳定。式②反应需控制pH值为11.0~12.0，ORP=350mV，反应时间一般在15min内。式③反应需控制pH值为7.0~7.5，ORP=650mV，反应时间为30min。

3.在碱性条件下采用Na2S沉淀工艺。比较CuS、Cu(OH)2的溶度积，lgKsp(CuS)=35.2，lgKsp(Cu(OH)2)=19.66。可见金属硫化物的稳定常数大，易于沉淀，除铜效率高，且适用的值范围大（pH值为9.5~11.0）。由于金属硫化物在酸性条件下不稳定，容易产生有毒气体H2S，因此反应不能在酸性条件下进行。含氰废水处理后排入综合池。

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